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제약 산업에서 하이드 록시 프로필 메틸 셀룰로스의 적용

Hypromellose (HPMC)는 우수한 기능적 특성 및 생체 적합성으로 인해 제약 산업에서 널리 사용 된 셀룰로오스 유도체입니다. 주요 적용 영역에는 정제 결합제, 붕 해제, 코팅 재료, 지속 방지제 및 액체 약물 및 겔 제조가 포함됩니다.

1. 바인더

정제 제조에서, 바인더로서의 HPMC는 약물 입자의 결합력을 향상시켜 정제 동안 안정적인 정제를 형성 할 수있게한다. HPMC 바인더에는 다음과 같은 장점이 있습니다.
기계적 강도 향상 : 태블릿에서 HPMC에 의해 형성된 점성 네트워크는 태블릿의 기계적 강도를 향상시키고 단편화 및 붕괴의 위험을 줄이는 데 도움이됩니다.
균일 성 향상 : 물의 용해도가 우수하기 때문에 HPMC는 입자 표면에 고르게 분포되어 각 정제에서 일관된 약물 함량을 보장 할 수 있습니다.
안정성 : HPMC는 다른 온도 및 습도 조건에서 우수한 안정성을 보여 주며, 태블릿 구조를 유지하면서 환경 적 영향에 덜 민감합니다.

2. 붕 해제

붕 해제의 기능은 약물 성분을 방출하기 위해 액체와 접촉 한 후 정제가 빠르게 붕해되도록하는 것입니다. HPMC는 붓기 특성으로 인해 태블릿 붕해를 효과적으로 촉진 할 수 있습니다.
수화 부기 : HPMC가 물과 접촉하면 물과 부풀어 오르면 정제 구조가 파열되어 약물 성분을 방출합니다.
붕해 시간 조정 : HPMC의 점도를 조정함으로써, 정제의 붕해 시간을 정확하게 제어하여 다른 약물의 방출 요구 사항을 충족시킬 수 있습니다.

3. 코팅 재료

HPMC는 태블릿 코팅에서 중요한 역할을합니다. 우수한 필름 형성 능력과 약물에 대한 보호 효과는 이상적인 코팅 재료입니다.
분리 효과 : HPMC 코팅은 태블릿의 활성 성분을 외부 환경으로부터 효과적으로 분리하여 탈리 킬, 산화 및 광분해를 방지 할 수 있습니다.
외관 개선 : HPMC 코팅은 부드러운 외부 표면을 제공하여 정제의 외관과 쉽게 삼키는 용이성을 향상시킬 수 있습니다.
약물 방출 조정 : 다양한 HPMC 제형 및 코팅 두께를 통해 제어 된 방출 또는 지속 방출을 달성 할 수 있습니다.

4. 지속 방출 에이전트

HPMC는 지속적인 방출 준비에 널리 사용됩니다. 겔 장벽을 통해 형성되는 것은 약물 방출을 지연시키고 장기 치료를 달성 할 수 있습니다.
겔 장벽 : 수성 매체에서, HPMC는 약물의 방출 속도를 제어 할 수있는 점성 겔을 용해시키고 형성한다.
안정적인 방출 : HPMC의 점도 및 농도는 안정적이고 예측 가능한 약물 방출을 달성하기 위해 정확하게 제어 될 수있다.
약물 빈도 감소 : 지속 방출 복용량 형태는 환자의 약물 빈도를 줄이고 약물 치료의 준수 및 효과를 향상시킬 수 있습니다.

5. 액체 준비 및 젤

HPMC는 액체 제제 및 겔에서 두껍게 및 안정제로서 중요한 역할을한다.
두껍게하는 효과 : HPMC는 물에서 균일 한 콜로이드 용액을 형성하여 액체 제제의 점도를 증가시키고 서스펜션 안정성을 향상시킬 수 있습니다.
안정화 효과 : HPMC는 다양한 pH 조건에서 안정적인 점도를 유지하여 약물 성분을 안정화시키고 강수량 및 계층화를 방지 할 수 있습니다.

6. 기타 응용 프로그램

HPMC는 또한 안과 제제, 비강 제제 및 국소 적용을위한 준비에 사용됩니다.
안과 제제 : HPMC는 인공 눈물과 안이 낙하에서 윤활제로 사용하여 안구 건조 증상을 완화합니다.
비강 제제 : 코 스프레이의 증점제로서, HPMC는 비강 내 약물의 체류 시간을 연장 할 수 있습니다.
국소 제제 : HPMC는 약물이 피부에 더 오래 머무를 수 있도록 국소 준비에서 보호 필름을 형성 할 수 있습니다.

기능성 부형제로서, 하이드 록시 프로필 메틸 셀룰로스는 제약 산업에서 널리 사용됩니다. 태블릿 제조, 코팅, 지속 방출 제제, 액체 준비 및 겔에서 다중 기능은 약물 제제의 품질 및 안정성을 크게 향상시킵니다. HPMC는 우수한 생체 적합성 및 기능적 특성으로 인해 제약 산업에서 없어서는 안될 중요한 물질이되었습니다. 앞으로 제약 기술의 지속적인 개발로 약물 연구 개발 및 제형 설계에서 HPMC의 응용 전망이 더 넓을 것입니다.


후 시간 : 2 월 17 일 -20125 년