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하이드 록시 프로필 메틸 셀룰로스 사용에 대해 자주 묻는 질문

하이드 록시 프로필 메틸 셀룰로스의 사용은 무엇입니까?
건축 자재, 코팅, 합성 수지, 세라믹, 의약품, 식품, 섬유, 농업, 화장품, 담배 및 기타 산업에 널리 사용됩니다. HPMC는 다음과 같이 나눌 수 있습니다. 현재 대부분의 국내 제품은 건축 등급입니다. 건축 등급에서 퍼티 파우더의 양은 매우 크고, 약 90%는 퍼티 파우더에 사용되며 나머지는 시멘트 박격포 및 접착제에 사용됩니다.

하이드 록시 프로필 메틸 섬유를 용해시키는 방법은 무엇입니까?
1. 온수 용해 방법 : HPMC는 온수에 용해되지 않기 때문에 HPMC는 초기 단계에서 온수로 균일하게 분산 된 다음 냉각시 빠르게 용해 될 수 있습니다.

2. 분말 혼합 방법 : HPMC 분말을 다른 많은 분말 화학 물질과 혼합하고 믹서와 완전히 혼합 한 다음 물로 녹이면 HPMC가 녹을 수 있으며, 작은 구석에 작은 구석에 작은 HPMC 가루가 있으므로 물과 즉시 물을 섭취 할 때 클러스터로 수집되지 않습니다.

하이드 록시 프로필 메틸 셀룰로스의 점도를 선택하는 방법?
다른 적용에 따라 다른 점성을 선택하십시오. 퍼티 파우더의 적용 : 100,000의 점도를 선택할 수 있습니다. 중요한 것은 물을 개선하는 것입니다. 박격포의 적용 : 높은 요구 사항, 고 점도, 점도 150,000을 선택하십시오. 접착제 적용 : 즉시 제품, 고 점도가 필요하며 점도 200,000을 선택하십시오.

하이드 록시 프로필 메틸 셀룰로스의 품질을 식별하는 방법은 무엇입니까?
백인성 : 백인은 HPMC를 사용하기 쉬운 지 여부를 결정하지 않으며 생산 공정에 미백제가 추가되면 품질에 영향을 미칩니다. 그러나 대부분의 좋은 제품은 유용한 백색도를 가지고 있습니다.

FENENESS : HPMC의 미세는 일반적으로 80 개의 메쉬 및 100 메쉬이며 120 메쉬는 적습니다. Hebei에서 생산 된 대부분의 HPMC는 80 메쉬입니다. 미세한 미세할수록 더 좋습니다.

투과율 : 하이드 록시 프로필 메틸 셀룰로스 (HPMC)를 물에 투명한 콜로이드를 형성하고 투과율을 점검하십시오. 수직 반응기의 투과성은 일반적으로 좋으며 수평 반응기는 더 나쁘지만 수직 반응기의 품질은 수평 반응기의 품질보다 우수하며 제품 품질을 결정하는 많은 요인이 있다고 말할 수는 없습니다.

비중 : 비중이 클수록 더 무겁습니다. 비중은 일반적으로 히드 록시 프로필 함량이 높고 하이드 록시 프로필 함량이 높기 때문에 수분 보유가 더 좋습니다.

하이드 록시 프로필 메틸 셀룰로스의 점도와 온도 사이의 관계
HPMC의 점도 계수는 온도, 즉 온도가 감소함에 따라 점도 계수가 증가하고 2% 용액은 섭씨 20도에서 테스트됩니다. 실제 응용에서는 여름과 겨울 사이의 온도 차이가 크면 겨울에는 비교적 낮은 점도가 사용되며, 이는 건축에 더 도움이된다는 점에 유의해야합니다.

퍼티 파우더에서 HPMC의 역할은 무엇입니까?
퍼티 파우더에서 HPMC는 세 가지 기능의 세 가지 기능을 수행합니다.

두껍게 : 셀룰로오스는 두껍게하여 매달리고 용액을 균일하고 일관성있게 유지하며 처짐에 저항 할 수 있습니다.

물 보유 : 퍼티 파우더를 천천히 건조시키고 물의 작용 하에서 애쉬 칼슘의 반응을 돕습니다.

구조 : 셀룰로오스는 윤활 효과를 가지고있어 퍼티 분말이 우수하게 작동 할 수 있습니다. HPMC는 어떤 화학 반응에도 참여하지 않으며 보조 역할 만 수행합니다. 퍼티 파우더에 물을 첨가하고 벽에 넣는 것은 화학 반응입니다. 새로운 물질의 형성으로 인해 벽에서 벽에 퍼티 가루를 가져 와서 가루로 갈아서 다시 사용하십시오. 새로운 물질 (탄산 칼슘)이 형성 되었기 때문에 작동하지 않을 것입니다. ) 위로.

애쉬 칼슘 분말의 주요 성분은 다음과 같습니다 : Ca (OH) 2, CaO 및 소량의 CACO3, CAO3, CAO+H2O = CA (OH) 2 — CA (OH) 2+CO2 = CACO3 ↓+H2O CO2의 작용 하에서 공기에서 물과 공기의 ASH 칼슘이 생성되는 반면, HPMC는 물을 유지하고 ASH의 반응을 돕지 않습니다.


시간 후 : 20-2025 년 2 월 20 일